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   立式真空裂解炉

   



   该立式真空裂解炉主要用于陶瓷基复合材料浸渍后的真空裂解烧成处理。

   

   技术特征


此立式真空裂解炉内置全密封高温裂解室,抗污染能力强,清理方便;

大于大尺寸设备,可设计成上下多区控温,进一步提高设备温度均匀性;

可选配外循环快冷系统,单炉生产周期短;

可选配多级尾气处理系统,对生产过程中产生的焦油、粉尘、尾气等能进行有效处理。

立式真空裂解炉产品规格

 

参数\型号

VVC-0508

VVC-1015

VVC-1520

工作区尺寸

W×H×L(mm)

Φ500×800

Φ1000×1500

Φ1500×2000

最高温度(℃)

1600

1600

1600

温度均匀性(℃)

±5

±7.5

±10

极限真空度(Pa)

50

50

50

压升率(Pa/h)

0.67

0.67

0.67

以上参数可根据工艺要求进行调整,不作为验收依据,具体以技术方案和协议为准。


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